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        CVD金刚石

        Writer:Vera LuoSource:self edited Number of visits: Date:Sep 7,2018

        CVD金刚石(Chemical Vapor Deposition diamond化学气相沉淀金刚石),是含碳气体和氢气的混合物在高温和低于标准大气压的压力下被激发分解,形成活性金刚石碳原子,并在基体上沉积交互生长的多晶金刚石(或控制沉积生长条件沉积生长金刚石单晶或者准单晶)

        由于CVD 金刚石中不含任何金属催化剂,因此它的热稳定性接近天然金刚石。CVD 金刚石晶粒呈无序排列,无脆性解理面,因此呈现各向同性。

         

        (一)CVD金刚石的主要性质

        硬度

        Hardness

        抗拉强度

        Tensile strength

        抗压强度

        Compressive strength

        摩擦系数

        Friction factor

        8000~10000Kg/mm2

        272 Kg/mm2

        9.8×1013 Kg/mm2

        0.05~1

        杨氏模量

        Young’s modulus

        密度

        Density

        热冲击系数

        Coefficient of thermal shock

        泊松比

        Poisson’s ratio

        1.05GPa

        3.51g/cm3

        107W/m

        0.22

        热导率

        Coefficient of thermal conductivity

        热膨胀系数Thermal expansion coefficient

        电阻率

        Resistivity

        相对介电常数

        Relative permittivity

        8~20W/(cm·K)

        2.3×10-6/℃

        ~106Ω·m

        5.7

        电子迁移率

        Electron mobility

        空穴迁移率

        Hole mobility

        饱和电子漂移速度

        Electron drift velocity

        禁带宽度

        Bandgap energy

        2200cm2/V·S

        1800 cm2/V·S

        2.5×107cm/s

        5.45ev

         

         

        (二)直流电弧等离子体喷射法生产CVD 金刚石/DC Arc Plasma Jet method to product CVD diamond.

         

        目前生产CVD金刚石有:热丝法,微波等离子体法,直流热阴极法和直流电弧等离子体法。其中直流等离子体法以生长速度快,金刚石膜的纯度比较高而胜过其他几种方法。

        我司生产的CVD金刚石为直流等离子体法制备,产品性能稳定,技术成熟,为广大客户认同。

        由于CVD金刚石具有如此多的优异性能,使得CVD金刚石在机械,微电子,热学,光学,宇航,医学等领域均具有无可替代的作用和广阔的应用前景。

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        TypeInfo: Trade news

        Keywords for the information:CVD金刚石,多晶,CVDdiamond,polycrystalline  薄膜